ViEW (Vision Engineering Workshop) は、横浜ベイエリアで開催される恒例行事として春のSSII、秋のViEW （ビュー）として親しまれております。本ワークショップは、これまで20年以上に亘り日本における「ものづくり」を支える生産技術に関わる画像処理応用技術の発信源として貢献してまいりました。最近は、外観検査、部品識別などの生産ラインばかりでなく、安全やセキュリティなど社会システムまで画像処理、マシンビジョンの応用分野が着実に拡がっております。このような中で、ViEWは、最先端の研究成果の発表の場として、産業界と大学・研究機関の皆様の意見交換、情報収集の場として、画像技術発展の一翼を担っております。

毎回、特別講演、オーガナイズドセッションなどで画像技術の実利用に関する最新の話題が提供され、各界から500名ほどの皆様にご参加頂いております。また、基調講演と一般講演をテーマ別に組み合わせたシングルトラックのセッション構成により、参加者全員が一堂に会して討論し、最新の情報を共有することを計画しております。さらに、優秀な研究発表に対して「画像応用技術専門委員会 小田原賞」を授与しています。

産・官・学のすべての研究者、技術者ばかりでなく画像処理とその応用技術に関心をお持ちの皆様の参加を心からお待ち申し上げております。

ViEW2010実行委員長　坂上勝彦（産総研）